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專(zhuān)利狀態(tài)
半導(dǎo)體端面泵浦高功率單模風(fēng)冷激光器
有效
專(zhuān)利申請(qǐng)進(jìn)度
申請(qǐng)
2009-05-06
申請(qǐng)公布
2010-11-10
授權(quán)
2012-12-12
預(yù)估到期
2029-05-06
專(zhuān)利基礎(chǔ)信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200910136518.7 申請(qǐng)日 2009-05-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN101882750A 申請(qǐng)公布日 2010-11-10
授權(quán)公布號(hào) CN101882750B 授權(quán)公告日 2012-12-12
分類(lèi)號(hào) H01S3/14;H01S3/16;H01S3/10;H01S3/101;H01S3/11;H01S3/042;H01S3/081;H01S3/09
分類(lèi) 基本電氣元件;
申請(qǐng)人名稱(chēng) 華工科技產(chǎn)業(yè)股份有限公司
申請(qǐng)人地址 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)華中科技大學(xué)科技園華工科技激光產(chǎn)業(yè)園
專(zhuān)利法律狀態(tài)
  • 2017-07-25
    專(zhuān)利申請(qǐng)權(quán)、專(zhuān)利權(quán)的轉(zhuǎn)移
    狀態(tài)信息
    專(zhuān)利權(quán)的轉(zhuǎn)移;IPC(主分類(lèi)):H01S3/14;登記生效日:20170705;變更事項(xiàng):專(zhuān)利權(quán)人;變更前:武漢華工激光工程有限責(zé)任公司;變更后:華工科技產(chǎn)業(yè)股份有限公司;變更事項(xiàng):地址;變更前:430223 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)華中科技大學(xué)科技園華工科技激光產(chǎn)業(yè)園;變更后:430075 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)華中科技大學(xué)科技園華工科技激光產(chǎn)業(yè)園
  • 2017-07-25
    著錄事項(xiàng)變更
    狀態(tài)信息
    著錄事項(xiàng)變更;IPC(主分類(lèi)):H01S3/14;變更事項(xiàng):發(fā)明人;變更前:盧飛星 閔大勇;變更后:盧飛星
  • 2012-12-12
    授權(quán)
    狀態(tài)信息
    授權(quán)
  • 2010-12-22
    實(shí)質(zhì)審查的生效
    狀態(tài)信息
    實(shí)質(zhì)審查的生效IPC(主分類(lèi)):H01S 3/14申請(qǐng)日:20090506
  • 2010-11-10
    公布
    狀態(tài)信息
    公布
摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體端面泵浦高功率單模風(fēng)冷激光器。第一泵浦源LD與第一耦合聚焦系統(tǒng)之間、第二泵浦源LD與第二耦合聚焦系統(tǒng)之間分別通過(guò)光纖連接;第一耦合聚焦系統(tǒng)和第二耦合聚焦系統(tǒng)輸出的激光分別入射到所述增益介質(zhì);第一耦合聚焦系統(tǒng)和第二耦合聚焦系統(tǒng)與增益介質(zhì)之間分別設(shè)有第一折反鏡和第二折反鏡;第一折反鏡的反射光路上設(shè)有熱透鏡補(bǔ)償全反鏡;第二折反鏡的反射光路上設(shè)有調(diào)Q開(kāi)關(guān)和全反鏡;增益介質(zhì)外側(cè)設(shè)有第一溫度控制裝置和第二溫度控制裝置,分別用于控制與增益介質(zhì)的a軸垂直的所有表面和與增益介質(zhì)的c軸垂直的所有表面的溫度。本發(fā)明的激光器功率大、效率高且發(fā)出的光束質(zhì)量?jī)?yōu)良。